该标准状态需要确认
该标准版本状态不明确，建议在执行前确认发布机构、版本号和生效日期。
适用范围
用于公开标准不足或客户限值更严格的半导体项目验收边界。
发布/归口：客户内控适用阶段：design / acceptance / operation
使用提示
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关联样品
电子电子级酸碱与高纯试剂电子级硝酸、盐酸、氢氟酸、氨水、双氧水等高纯试剂电子电子级溶剂IPA、丙酮、NMP、PGMEA 等清洗或工艺溶剂电子光刻胶/显影液/剥离液光刻胶、显影液、剥离液和配套过程化学品电子清洗/蚀刻/电镀过程液清洗液、蚀刻液、电镀液和槽液过程样水样半导体超纯水 UPW晶圆厂 UPW 系统、用水点、回水和取样点水样通用实验室环境与辅助介质实验室纯水、气体、压缩空气、温湿度、排风和洁净环境。电子洁净室表面擦拭/晶圆表面萃取工作台面、设备表面、洁净服、晶圆表面或载具表面电子洁净室空气与运行环境洁净室、局部洁净区、设备周边和人员活动区域电子半导体高纯气体高纯氮、氩、氢、氧、氦和特种工艺气体电子晶圆表面萃取液晶圆、薄膜和工艺后表面萃取液电子半导体封装件与可靠性样品封装器件、模组、基板、焊点、连接器和材料片电子电子元器件/可靠性样品PCB、连接器、模组、传感器、汽车电子和结构件。材料高分子/塑料样品塑料粒料、薄膜、橡胶、树脂和复合材料。
关联检测指标
半导体痕量金属元素ng/L or ug/L阴阳离子杂质化学ug/L卡尔费休水分化学ppm液体颗粒物粒度/孔结构counts/mL不挥发残渣 NVR化学mg/L or ppm有机杂质/分解产物有机ppm纯度/主成分浓度化学%UPW 电阻率/电导率理化MOhm.cm / uS/cm半导体水 TOC有机ug/L溶解氧化学ug/L菌落总数微生物CFU洁净室悬浮粒子粒度/孔结构counts/m3AMC 分子污染化学ug/m3 or ppb高低温/湿热可靠性degC/%RH洁净室压差理化Pa风速/换气次数理化m/s or ACH表面残留/清洁验证化学ug/cm2晶圆表面金属污染元素atoms/cm2 or ng离子污染/离子残留化学ug/cm2表面颗粒/缺陷密度粒度/孔结构counts/area膜厚与均匀性理化nm / %片电阻理化ohm/sq表面粗糙度理化nm高纯气体水分化学ppm or ppb高纯气体氧杂质化学ppm or ppb总烃 THC有机ppm or ppb气体纯度与供应理化气体颗粒物粒度/孔结构counts酸性/碱性杂质化学ppb冷热冲击可靠性cycle盐雾腐蚀可靠性h振动/机械冲击可靠性g/Hz绝缘电阻可靠性ohm接触电阻可靠性mohm老化/寿命试验可靠性h