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检测指标

液体颗粒物

液体颗粒计数器、洁净取样系统。

方法与配置影响

用于 UPW、电子级化学品、过程液和清洗液的颗粒污染控制。需要粒径通道、流速、取样容器、背景冲洗和重复性记录。液体颗粒计数器、洁净取样系统。

推荐仪器资料

色谱质谱色谱质谱气相色谱质谱 GC-MS 系统GC-MS / Headspace / Purge Trap查看产品资料离子色谱离子色谱离子色谱系统IC / 阴阳离子 / 自动进样查看产品资料元素分析元素分析ICP-MS 电感耦合等离子体质谱ICP-MS查看产品资料智能离子色谱仪推荐仪器智能离子色谱仪IC6300系列查看产品资料乐枫RephiLe纯水器、超纯水器、纯水机、超纯水机Genie PURIST系列推荐仪器乐枫RephiLe纯水器、超纯水器、纯水机、超纯水机Genie PURIST系列Genie PURIST查看产品资料BTOC-30L 总有机碳分析仪推荐仪器BTOC-30L 总有机碳分析仪BTOC-30L查看产品资料岛津电感耦合等离子体质谱仪ICPMS-2030推荐仪器岛津电感耦合等离子体质谱仪ICPMS-2030ICPMS-2030Series查看产品资料PerkinElmer NexION 350 ICP-MS推荐仪器PerkinElmer NexION 350 ICP-MSNexION 350 Series查看产品资料

关联配置清单

半导体痕量污染与洁净监测配置清单面向半导体 UPW、电子级化学品、洁净室环境和过程介质的分层仪器配置与交付资料清单。

关联样品

电子电子级酸碱与高纯试剂电子级硝酸、盐酸、氢氟酸、氨水、双氧水等高纯试剂电子电子级溶剂IPA、丙酮、NMP、PGMEA 等清洗或工艺溶剂电子光刻胶/显影液/剥离液光刻胶、显影液、剥离液和配套过程化学品电子清洗/蚀刻/电镀过程液清洗液、蚀刻液、电镀液和槽液过程样水样半导体超纯水 UPW晶圆厂 UPW 系统、用水点、回水和取样点水样通用实验室环境与辅助介质实验室纯水、气体、压缩空气、温湿度、排风和洁净环境。电子洁净室表面擦拭/晶圆表面萃取工作台面、设备表面、洁净服、晶圆表面或载具表面

标准依据与适用环节

这些标准用于把需求拆解到样品、方法、设备、场地、数据记录、验收资料和后续运维。

CNAS-CL01检测和校准实验室能力认可准则实验室层面现行需求确认 / 标准拆解 / 配置设计 / 采购沟通
GB/T 6682分析实验室用水规格和试验方法样品层面现行设备选型 / 安装条件 / 验收交付 / 运维维护
危险化学品与废液管理要求化学品储存、使用、废液分类和转运要求安全层面现行风险识别 / 场地核对 / 防护配置 / 人员培训
仪器到货验收资料要求装箱、安装、培训、性能确认和维护资料验收层面现行采购沟通 / 安装调试 / 验收交付
SEMI-CHEM-CLUSTERSEMI 电子级化学品相关标准簇（待按客户项目确认具体编号）方法层面待确认design / acceptance
SEMI-UPW-CLUSTERSEMI 超纯水 UPW 相关标准簇（待按客户项目确认具体编号）验收层面待确认design / acceptance / operation
CUSTOMER-SPEC客户内控规格/供应商审核规范验收层面待确认design / acceptance / operation
SEMI F61-0521SEMI F61-0521 半导体超纯水系统设计与运行指南设备层面现行design / acceptance / operation
SEMI F63SEMI F63 超纯水用于半导体工艺指南验收层面待确认design / acceptance
SEMI F75-0521SEMI F75-0521 半导体制造超纯水质量监测指南数据层面现行acceptance / operation
ASTM D5127ASTM D5127 电子和半导体行业超纯水指南方法层面现行design / acceptance
ASTM D5391ASTM D5391 高纯水流动样品电导率和电阻率测试方法方法层面现行acceptance / operation
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