样品边界
基质：工作台面、设备表面、洁净服、晶圆表面或载具表面样品状态：擦拭样/萃取液/表面样保存要求：使用低背景擦拭材料和洁净溶剂，记录面积、位置和萃取条件。前处理：用于金属残留、离子残留、颗粒、表面有机残留和清洁验证。风险提示：擦拭回收率和空白控制决定数据可解释性。
关联检测指标
菌落总数微生物CFU高低温/湿热可靠性degC/%RH溶解氧化学ug/L洁净室压差理化PaUPW 电阻率/电导率理化MOhm.cm / uS/cm半导体水 TOC有机ug/L半导体痕量金属元素ng/L or ug/L阴阳离子杂质化学ug/L液体颗粒物粒度/孔结构counts/mL洁净室悬浮粒子粒度/孔结构counts/m3AMC 分子污染化学ug/m3 or ppb风速/换气次数理化m/s or ACH表面残留/清洁验证化学ug/cm2晶圆表面金属污染元素atoms/cm2 or ng离子污染/离子残留化学ug/cm2表面颗粒/缺陷密度粒度/孔结构counts/area膜厚与均匀性理化nm / %片电阻理化ohm/sq表面粗糙度理化nm
标准依据与适用环节
这些标准用于把需求拆解到样品、方法、设备、场地、数据记录、验收资料和后续运维。
CNAS-CL01检测和校准实验室能力认可准则实验室层面现行需求确认 / 标准拆解 / 配置设计 / 采购沟通
GB/T 6682分析实验室用水规格和试验方法样品层面现行设备选型 / 安装条件 / 验收交付 / 运维维护
JJG/JJF 计量校准规范仪器校准、期间核查和量值溯源规范设备层面现行设备选型 / 计量校准 / 验收交付 / 运维维护
仪器到货验收资料要求装箱、安装、培训、性能确认和维护资料验收层面现行采购沟通 / 安装调试 / 验收交付
SEMI-UPW-CLUSTERSEMI 超纯水 UPW 相关标准簇（待按客户项目确认具体编号）验收层面待确认design / acceptance / operation
SEMI-CONTAMINATION-CLUSTERSEMI 污染控制与洁净相关标准簇（待核验具体编号）验收层面待确认design / acceptance / operation
SEMI-WAFER-CLUSTERSEMI 晶圆与表面污染相关实践簇（待核验具体编号）方法层面待确认design / acceptance
ISO 14644ISO 14644 洁净室与受控环境标准簇验收层面现行design / acceptance / operation
CUSTOMER-SPEC客户内控规格/供应商审核规范验收层面待确认design / acceptance / operation