样品模型库

先把样品基质和前处理边界说清楚

样品库用于把基质、状态、保存条件、前处理风险和关联指标组织起来,方便反推仪器组合、标准依据和交付资料。

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显示 24 / 57 类样品

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食品

婴幼儿配方食品

重点拆解营养成分、重金属、微生物、添加剂和标准品体系。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

奶粉、液态奶和营养强化食品7 项指标
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食品

食用油脂样品

重点关注酸价、过氧化值、溶剂残留、污染物和脂溶性组分。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

植物油、动物油、调和油和煎炸油5 项指标
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食品

调味品与香辛料

重点拆解添加剂、重金属、农残、非法添加和微生物。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

酱油、醋、复合调味料、香辛料粉6 项指标
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环境

场地修复土壤样品

重点检测重金属、挥发/半挥发有机物、石油烃和 pH。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

污染场地、修复过程和验收土壤6 项指标
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环境

环境空气滤膜样品

重点检测重量、金属元素、离子和有机组分。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

颗粒物滤膜、沉降尘和环境监测样品5 项指标
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环境

废气吸附管样品

重点检测挥发性有机物和特征污染因子。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

VOCs 吸附管、采样袋和废气监测样品3 项指标
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材料

锂电池浆料

重点检测粒径、黏度、固含、元素杂质和热稳定性。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

正负极浆料、导电剂浆料和粘结剂体系3 项指标
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材料

陶瓷粉体

重点检测粒径、比表面积、孔径、元素杂质和热稳定性。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

氧化铝、氮化硅、氧化锆和功能陶瓷粉3 项指标
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材料

聚合物薄膜

重点检测 FTIR、DSC、TGA、力学和迁移风险。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

塑料膜、功能膜、包装膜和复合膜4 项指标
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材料

涂层与镀层样品

重点检测盐雾、厚度、附着力、元素和表面形貌。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

金属涂层、防腐涂层、电子镀层3 项指标
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电子

连接器可靠性样品

重点测试高低温、湿热、盐雾、插拔和接触电阻。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

汽车电子、消费电子和工业连接器3 项指标
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电子

传感器模块

重点测试环境适应性、漂移、响应和失效模式。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

温湿度、压力、光电和汽车传感器3 项指标
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通用

实验室压缩气体

服务于 GC、ICP、热分析、质谱和洁净吹扫。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

氮气、氦气、氩气、空气、氢气和混合气4 项指标
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通用

标准物质与质控样

用于曲线、校准、回收率、质控样和结果复核。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。 建议同步确认代表性制样、空白控制和复测规则。

标准溶液、固体标准物质、质控样和校准品3 项指标
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水样

半导体超纯水 UPW

区分在线监测和实验室复核;优先确认空白、取样点、冲洗时间和保存时限。

晶圆厂 UPW 系统、用水点、回水和取样点水样7 项指标5 条标准
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电子

电子级酸碱与高纯试剂

前处理应控制空白和稀释用水等级,优先确认痕量金属、阴阳离子、水分和不挥发残渣。

电子级硝酸、盐酸、氢氟酸、氨水、双氧水等高纯试剂7 项指标4 条标准
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电子

电子级溶剂

重点确认水分、金属、颗粒、有机杂质、纯度和残渣。

IPA、丙酮、NMP、PGMEA 等清洗或工艺溶剂7 项指标4 条标准
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电子

光刻胶/显影液/剥离液

拆解固含量、黏度、颗粒、金属、添加剂浓度和分解产物。

光刻胶、显影液、剥离液和配套过程化学品7 项指标4 条标准
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电子

清洗/蚀刻/电镀过程液

关注浓度、pH、电导率、金属杂质、颗粒、表面张力、黏度、固含量和添加剂浓度。

清洗液、蚀刻液、电镀液和槽液过程样13 项指标7 条标准
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电子

半导体高纯气体

重点确认水分、氧、总烃、颗粒、酸碱性杂质和纯度。

高纯氮、氩、氢、氧、氦和特种工艺气体12 项指标7 条标准
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电子

洁净室空气与运行环境

关注悬浮粒子、AMC、温湿度、压差、风速/换气次数、静电和微振动。

洁净室、局部洁净区、设备周边和人员活动区域6 项指标5 条标准
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电子

洁净室表面擦拭/晶圆表面萃取

用于金属残留、离子残留、颗粒、表面有机残留和清洁验证。

工作台面、设备表面、洁净服、晶圆表面或载具表面19 项指标9 条标准
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电子

晶圆表面萃取液

用于金属污染、离子污染、表面颗粒和工艺残留评估。

晶圆、薄膜和工艺后表面萃取液6 项指标5 条标准
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电子

半导体封装件与可靠性样品

用于温湿度循环、热冲击、盐雾、振动、绝缘、接触电阻和失效分析。

封装器件、模组、基板、焊点、连接器和材料片7 项指标5 条标准
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电话